光学镀膜机内真空度的对滤光片性能的影响?

真空镀膜机是生产光学滤光片至关重要的一个生产设备，但是真空镀膜机的一些参数变化会对滤光片有什么影响呢？深圳纳宏光电带您进一步了解。

真空镀膜机内真空度对滤光片性能的影响是由于剩余气体与膜料原子、分子的气相碰撞所致的能量损失及化学反应。如果真空镀膜机内真空度低，致使膜料蒸气分子与剩余气体分子碰撞几率增加，蒸气分子动能大大减小，使得蒸气分子无法到达基片，或无力冲破基片上的气体吸附层，或勉强能冲破气体吸附层但与基片的吸附能却很小，从而导致光学滤光片器件沉积的膜层疏松，聚积密度低，机械强度差，化学成分不纯，使得滤光片的膜层折射率、硬度变差。

一般来说随着镀膜机内真空度的提高，光学滤光片膜层的结构进一步改善，膜层的化学成分变纯，但应力增大。金属膜和半导体膜的纯度越高越好，它们对镀膜机内真空度的依赖性很大，从而需要更高的镀膜机内真空度受真空度影响的滤光片性能主要有：折射率散射机械强度和不溶性。