镀膜的滤光片基片温度对滤光片有什么影响？

镀膜的时候提高基片温度有利于将吸附在基片表面的剩余气体分子排除，增加基片与沉积分子之间的结合力；同时会促使物理吸附向化学吸附转换，增强分子之间相互作用，使滤光片膜层结构紧密。例如，MεF2膜，基片加热到250~300℃可减小内应力，提高聚集密度，增加滤光片膜层硬度；基片加热到120~150℃制备的ZAO2-SiO2多层膜，其机械强度提高了许多，但基片温度过高会造成滤光片膜层变质。