答:离子束辅助沉积可以在真空蒸镀的同时用一定能量、种类、流强的离子束轰击正在生长的表面而形成所需要的厚度和光学特性的薄膜。 主要的优点有: a.膜层和基底界面形成连续的混合,提高附着力。 b.镀膜的密度与整块材料的基本相同。 c.镀膜的速率高 d.镀膜的膜层缜密性好,孔洞减少,晶粒均匀细小,可提高抗腐蚀性能。 e.工艺参数易于控制 镀膜机离子源图片
2018-04-04
免费滤光片技术咨询热线-通过ISO9001:2015质量管理体系认证