什么是离子辅助沉积技术?

离子辅助沉积技术英文缩写为：IAD，是一种真空蒸发为基础的辅助沉积方法。真空蒸发镀膜过程中沉积的原子或者分子在基片表面的有限迁移率形成柱状的薄膜结构，所以在沉积的过程中对生长的薄膜利用离子源轰击，讲离子的动量传给沉积的原子或分子，使沉积的分子或者原子的迁移率得到提高，从而抑制了柱状结构的生长，使得光学介质薄膜的密度增加，光学性能进一步提高。 当前，离子辅助沉积技术（IAD）已经成为

2018-04-10